कंपनी समाचार

LiTaO3 वेफर PIC — ऑन-चिप नॉनलाइनियर फोटोनिक्स के लिए कम हानि वाला लिथियम टैंटलेट-ऑन-इंसुलेटर वेवगाइड
एडमिन द्वारा 24-11-20 को
सारांश: हमने 0.28 dB/cm की हानि और 1.1 मिलियन के रिंग रेज़ोनेटर गुणवत्ता कारक के साथ 1550 nm का इन्सुलेटर-आधारित लिथियम टैंटलेट वेवगाइड विकसित किया है। नॉनलाइनियर फोटोनिक्स में χ(3) नॉनलाइनियरिटी के अनुप्रयोग का अध्ययन किया गया है। लिथियम नायोबेट के लाभ...
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XKH-ज्ञान साझाकरण-वेफर डाइसिंग तकनीक क्या है?
एडमिन द्वारा 24-11-19 को
सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया में एक महत्वपूर्ण चरण के रूप में वेफर डाइसिंग तकनीक, चिप के प्रदर्शन, उत्पादन और उत्पादन लागत से सीधे तौर पर जुड़ी हुई है। #01 वेफर डाइसिंग की पृष्ठभूमि और महत्व 1.1 वेफर डाइसिंग की परिभाषा वेफर डाइसिंग (जिसे स्क्रि...) के नाम से भी जाना जाता है
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पतली परत वाली लिथियम टैंटलेट (LTOI): क्या यह हाई-स्पीड मॉड्युलेटर के लिए अगली स्टार सामग्री बन सकती है?
एडमिन द्वारा 24-11-08 को
पतली परत वाली लिथियम टैंटलेट (एलटीओआई) सामग्री एकीकृत प्रकाशिकी क्षेत्र में एक महत्वपूर्ण नई शक्ति के रूप में उभर रही है। इस वर्ष, एलटीओआई मॉड्यूलेटर पर कई उच्च-स्तरीय कार्य प्रकाशित हुए हैं, जिनमें शंघाई इंस्टीट्यूट के प्रोफेसर शिन ओउ द्वारा प्रदान किए गए उच्च-गुणवत्ता वाले एलटीओआई वेफर्स का उपयोग किया गया है।
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वेफर निर्माण में एसपीसी प्रणाली की गहन समझ
एडमिन द्वारा 24-10-16 को
एसपीसी (सांख्यिकीय प्रक्रिया नियंत्रण) वेफर निर्माण प्रक्रिया में एक महत्वपूर्ण उपकरण है, जिसका उपयोग निर्माण के विभिन्न चरणों की स्थिरता की निगरानी, नियंत्रण और सुधार के लिए किया जाता है। 1. एसपीसी प्रणाली का अवलोकन: एसपीसी एक ऐसी विधि है जो सांख्यिकीय प्रक्रिया नियंत्रण का उपयोग करती है...
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एपिटैक्सी प्रक्रिया वेफर सब्सट्रेट पर क्यों की जाती है?
एडमिन द्वारा 24-10-16 को
सिलिकॉन वेफर सब्सट्रेट पर सिलिकॉन परमाणुओं की एक अतिरिक्त परत उगाने के कई फायदे हैं: CMOS सिलिकॉन प्रक्रियाओं में, वेफर सब्सट्रेट पर एपिटैक्सियल ग्रोथ (EPI) एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया चरण है। 1. क्रिस्टल गुणवत्ता में सुधार...
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वेफर की सफाई के सिद्धांत, प्रक्रियाएं, विधियां और उपकरण
एडमिन द्वारा 24-10-08 को
गीली सफाई (वेट क्लीन) सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रियाओं में एक महत्वपूर्ण चरण है, जिसका उद्देश्य वेफर की सतह से विभिन्न संदूषकों को हटाना है ताकि बाद की प्रक्रिया के चरणों को स्वच्छ सतह पर किया जा सके।
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क्रिस्टल तलों और क्रिस्टल अभिविन्यास के बीच संबंध।
एडमिन द्वारा 24-10-08 को
क्रिस्टल तल और क्रिस्टल अभिविन्यास क्रिस्टलोग्राफी की दो प्रमुख अवधारणाएँ हैं, जो सिलिकॉन-आधारित एकीकृत सर्किट प्रौद्योगिकी में क्रिस्टल संरचना से निकटता से संबंधित हैं। 1. क्रिस्टल अभिविन्यास की परिभाषा और गुण: क्रिस्टल अभिविन्यास एक विशिष्ट दिशा का प्रतिनिधित्व करता है...
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