गीली नक़्क़ाशी

वेट एचिंग में विशेष रासायनिक विलयनों का उपयोग करके नीलम सामग्री को चुनिंदा रूप से हटाया जाता है और वांछित सूक्ष्म संरचनाएं बनाई जाती हैं। यह प्रक्रिया उच्च उत्पादन क्षमता, अच्छी एकरूपता और अपेक्षाकृत कम प्रसंस्करण लागत प्रदान करती है, जिससे यह बड़े क्षेत्र में पैटर्न बनाने और मध्यम साइडवॉल प्रोफाइल आवश्यकताओं वाले अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है।

विलयन की संरचना, तापमान और नक़्क़ाशी के समय को सटीक रूप से नियंत्रित करके, नक़्क़ाशी की गहराई और सतह की आकृति विज्ञान पर स्थिर नियंत्रण प्राप्त किया जा सकता है। वेट-एच्ड नीलमणि वेफर्स का व्यापक रूप से एलईडी पैकेजिंग सबस्ट्रेट्स, संरचनात्मक सहायक परतों और चुनिंदा एमईएमएस अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है।

शुष्क नक़्क़ाशी

प्लाज्मा एचिंग या रिएक्टिव आयन एचिंग (आरआईई) जैसी ड्राई एचिंग विधियों में भौतिक और रासायनिक प्रक्रियाओं के माध्यम से नीलम को एच करने के लिए उच्च-ऊर्जा आयनों या प्रतिक्रियाशील पदार्थों का उपयोग किया जाता है। यह विधि बेहतर एनिसोट्रॉपी, उच्च परिशुद्धता और उत्कृष्ट पैटर्न स्थानांतरण क्षमता प्रदान करती है, जिससे बारीक आकृतियों और उच्च-आस्पेक्ट-अनुपात वाले सूक्ष्म संरचनाओं का निर्माण संभव हो पाता है।

ड्राई एचिंग उन अनुप्रयोगों के लिए विशेष रूप से उपयुक्त है जिनमें ऊर्ध्वाधर साइडवॉल, स्पष्ट फीचर परिभाषा और सटीक आयामी नियंत्रण की आवश्यकता होती है, जैसे कि माइक्रो-एलईडी उपकरण, उन्नत सेमीकंडक्टर पैकेजिंग और उच्च-प्रदर्शन एमईएमएस संरचनाएं।