8 इंच सिलिकॉन वेफर पी/एन-टाइप (100) 1-100Ω डमी रिक्लेम सबस्ट्रेट

संक्षिप्त वर्णन:

हमारे पास दोनों तरफ पॉलिश किए हुए वेफर्स का विशाल भंडार है, सभी वेफर्स 50 से 400 मिमी व्यास के हैं। यदि आपकी विशिष्ट आवश्यकता के अनुसार वेफर्स हमारे भंडार में उपलब्ध नहीं हैं, तो हमने कई आपूर्तिकर्ताओं के साथ दीर्घकालिक संबंध स्थापित किए हैं जो आपकी विशिष्ट आवश्यकताओं के अनुरूप वेफर्स का निर्माण कर सकते हैं। दोनों तरफ पॉलिश किए हुए वेफर्स सिलिकॉन, कांच और अन्य सामग्रियों के लिए उपयोग किए जा सकते हैं जो आमतौर पर सेमीकंडक्टर उद्योग में उपयोग किए जाते हैं।


विशेषताएँ

वेफर बॉक्स का परिचय

8 इंच का सिलिकॉन वेफर एक सामान्य रूप से उपयोग किया जाने वाला सिलिकॉन सब्सट्रेट पदार्थ है और एकीकृत परिपथों के निर्माण में इसका व्यापक रूप से उपयोग होता है। इस प्रकार के सिलिकॉन वेफर का उपयोग आमतौर पर माइक्रोप्रोसेसर, मेमोरी चिप्स, सेंसर और अन्य इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों सहित विभिन्न प्रकार के एकीकृत परिपथों के निर्माण में किया जाता है। 8 इंच के सिलिकॉन वेफर का उपयोग अपेक्षाकृत बड़े आकार के चिप्स बनाने के लिए किया जाता है, जिसके कई लाभ हैं, जिनमें बड़ा सतह क्षेत्र और एक ही सिलिकॉन वेफर पर अधिक चिप्स बनाने की क्षमता शामिल है, जिससे उत्पादन क्षमता में वृद्धि होती है। 8 इंच के सिलिकॉन वेफर में अच्छे यांत्रिक और रासायनिक गुण भी होते हैं, जो इसे बड़े पैमाने पर एकीकृत परिपथों के उत्पादन के लिए उपयुक्त बनाते हैं।

उत्पाद की विशेषताएँ

8 इंच पी/एन टाइप, पॉलिश किया हुआ सिलिकॉन वेफर (25 पीस)

अभिविन्यास: 200

प्रतिरोधकता: 0.1 - 40 ओम•सेमी (यह बैच के अनुसार भिन्न हो सकती है)

मोटाई: 725+/-20um

प्राइम/मॉनिटर/टेस्ट ग्रेड

सामग्री के गुणधर्म

पैरामीटर विशेषता
प्रकार/डोपेंट फास्फोरस (P), बोरॉन (N), फास्फोरस (N), एंटीमनी (N), आर्सेनिक
झुकाव <100>, <111> ग्राहक की विशिष्टताओं के अनुसार दिशाएँ काट दी जाती हैं
ऑक्सीजन सामग्री 1019ग्राहक की विशिष्टताओं के अनुसार अनुकूलित सहनशीलता (ppmA)
कार्बन सामग्री < 0.6 पीपीएमए

यांत्रिक विशेषताएं

पैरामीटर मुख्य मॉनिटर/परीक्षण ए परीक्षा
व्यास 200±0.2 मिमी 200 ± 0.2 मिमी 200 ± 0.5 मिमी
मोटाई 725±20µm (मानक) 725±25µm (मानक) 450±25µm

625±25µm

1000±25µm

1300±25µm

1500±25 µm

725±50µm (मानक)
टीटीवी < 5 µm < 10 µm < 15 µm
झुकना < 30 µm < 30 µm < 50 µm
लपेटना < 30 µm < 30 µm < 50 µm
किनारों को गोल करना सेमी-एसटीडी
अंकन प्राइमरी सेमी-फ्लैट केवल, सेमी-स्टैंडर्ड फ्लैट्स, जेइडा फ्लैट, नॉच
पैरामीटर मुख्य मॉनिटर/परीक्षण ए परीक्षा
सामने की ओर मानदंड
सतही स्थिति रासायनिक यांत्रिक पॉलिश रासायनिक यांत्रिक पॉलिश रासायनिक यांत्रिक पॉलिश
सतही खुरदरापन < 2 ए° < 2 ए° < 2 ए°
दूषण

कण @ >0.3 µm

= 20 = 20 = 30
धुंध, गड्ढे

संतरे का छिलका

कोई नहीं कोई नहीं कोई नहीं
देखा, निशान

स्त्रिअतिओन्स

कोई नहीं कोई नहीं कोई नहीं
पीछे की ओर मानदंड
दरारें, आंखों के कोने की झुर्रियां, आरी के निशान, दाग कोई नहीं कोई नहीं कोई नहीं
सतही स्थिति कास्टिक उत्कीर्ण

विस्तृत आरेख

आईएमजी_1463 (1)
आईएमजी_1463 (2)
आईएमजी_1463 (3)

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